三村秀和 （Mimura Hidekazu) （出身：大阪府河内長野市）
東京大学大学院工学系研究科精密工学専攻 ： 准教授
理化学研究所 播磨研究所 放射光科学総合研究センター 石川Ｘ線干渉光学研究室 ： 客員研究員
(2004年～）
理化学研究所 基幹研究所 大森素形材工学研究室 ： 客員研究員（2008年～）
理化学研究所 放射光科学総合研究センター XFEL研究開発部門 ビームライン研究開発グループ ビームライン開発チーム （矢橋Gr)
：客員研究員（2011年～）
University of Rochester (USA) Institute of Optics J. R. Fienup Group ： Visiting Scientist (2011年～）
（Fienup Grとの写真2012.5)
博士 （工学） ：大阪大学 専門 超精密加工、Ｘ線光学
1997.3 大阪大学工学部精密工学科 卒業 （森 研究室）
1999.3 大阪大学大学院工学研究科 精密科学専攻 修士課程修了 （森 研究室）
2002.3 大阪大学大学院工学研究科 精密科学専攻 博士課程修了 博士（工学） （森 研究室）
2002.4 大阪大学大学院工学研究科 超精密科学研究センター 研究員
2003.4 大阪大学大学院工学研究科 精密科学専攻 助手（～2007.3）/助教（2007.4～20011.12） （山内研究室）
2006.10 科学技術振興機構 さきがけ ナノ製造技術の探索と展開 研究員 （～2010.3）
2011.1 東京大学大学院工学系研究科 精密機械工学専攻（現 精密工学専攻） 准教授 （国枝・三村研究室）
一言で研究テーマを説明すると ： ナノ精度加工・計測・転写プロセスの構築とＸ線光学素子応用
下記は、2012年まで 東大着任後は研究室の成果をご覧ください。
（１） 研究論文
69. H.Mimura, H. Ohmori, K. Yamauchi, Development of Focusing system for
X-ray Free Electron Laser, Key Engneering Materials, 516, 251-256, 2012.
68. H. Mimura, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamauchi, Surface replication
with one-nanometer-level smoothness by a nickel electroforming process,
International Journal of Electrical Machining, 16, 21-25, 2011.
67. H. Mimura, H. Ishikura, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamauchi, Electroforming
for replicating nanometer-level smooth surface, Journal of Nanoscience
and Nanotechnology, 11 , 2886-2889, 2011.
66. H. Mimura, T. Kimura, H. Yumoto, H. Yokoyama, H. Nakamori , S. Matsuyama,
K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi a, One dimensionalsub
10-nm hard X-ray focusing using laterally graded multilayer mirror, Nuclear
Instruments and Methods in Physics Reserch A , 635, (1) , 16-18, 2011.
65. S. Matsuyama, T. Wakioka, N. Kidani, T. Kimura, H. Mimura, Y. Sano,
Y. Nishino, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa and K. Yamauchi, One-dimenisonal
Wolter optics with a sub-50nm spatial resolution, Optical Letters, 35,
(21), 3583-3585, 2010.
64. T. Kimura, H. Mimura, S. Handa, H. Yumoto, H. Yokoyam, S. Imai, S.
Matsuyama, Y. Sano, K. Tamasaku, Y. Kohmura, Y. Nishino, M. Yabashi, T.
Ishikawa, K. Yamauchi, Wavefield characterization of nearly diffraction-limited
focused hard x-ray beam with size less than 10 nm, Rev. Sci. Instrum.,
81, 123704 2010.
63. H. Mimura, S. Handa, T. Kimura, H. Yumoto, D. Yamakawa, H. Yokoyama,
S. Matsuyama, K. Inagaki, K. Yamamura, Y. Sano, K. Tamasaku, Y. Nishino,
M. Yabashi, T. Ishikawa & K. Yamauchi: Breaking the 10nm barrier in
hard-X-ray focusing, Nature Physics, 6 (2), 122-125, 2010.
62. 三村秀和, 湯本博勝, 松山智至, 佐野泰久, 山内和人: Ｘ線ミラー用ナノ精度表面創成法の開発-形状修正加工の高分解能化とＸ線集光ミラーへの適応,
精密工学会誌,76 (3), 338-342, 2010
61. H. Mimura, S. Handa, Ch. Morawe, H. Yokoyama, T. Kimura, S. Matsuyam,
K. Yamauchi: Ray-tracing analysis in aberration of a lateral-graded multilayer
mirror, Nuclear Instruments and Methods in Physics Reserch A , 616, 251-254
(2010)
60. H. Yumoto, H. Mimura, S. Handa, T. Kimura, S. Matsuyama, Y. Sano, H.
Ohashi, K. Yamauchi, and T. Ishikawa: Stitching-angle measurable microscopic-interferometer:
surface-figure metrology tool for hard X-ray nanofocusing mirrors with
large curvature, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A,
616,203-206, 2010
59. S. Handa, H. Mimura, H. Yumoto, T. Kimura, S. Matsuyama, Y. Sano, K.
Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi , T. Ishikawa and K. Yamauchi: Extended
knife-edge method for characterizing Sub-10-nm X-ray beams, Nuclear Instruments
and Methods in Physics Reserch A, On-line published, 2009
58. T. Kimura, H. Ohashi, H. Mimura, D. Yamakawa, H. Yumoto, S. Matsuyama,
N. Tsumura, H. Okada, T. Masunaga, Y. Senba, S. Goto, T. Ishikawa and K.
Yamauchi: A Stitching Figure Profiler of Large X-ray Mirrors Using RADSI
for Subaperture Data Acquisition, Nuclear Instruments and Methods in Physics
Reserch A , 616(2-3), 229-232 (2010)
57. K. Ohwada, K. Namikawa, S. Shimomura, H. Nakao, H. Mimura, K. Yamauchi,
M. Matsushita, J. Mizuki: X-ray Intensity Fluctuation Spectroscopy Using
Nanofocused Hard X-rays: Its Application to Study of Relaxor Ferroelectrics,
Japanese Journal of Applied Physics, 49, 020216-1-3, 2009
56. J. Murata, A. Kubota, K. Yagi, Y. Sano, H. Hara, K. Arima, T. Okamoto,
H. Mimura, and K. Yamauchi: New chemical planarization of SiC and GaN using
an Fe plate in H2O2 solution, Materials Science Forum, Vols. 600-603, 815-818,
2009
55. T. Okamoto, Y. Sano, H. Hara, K. Arima, K. Yagi, J. Murata, H. Mimura
and K. Yamauchi: Damage-free Planarization of 2-inch 4H-SiC Wafer Using
Pt Catalyst Plate and HF Solution, Materials Science Forum, Vols. 600-603,
835-838, 2009
54. T. Kato, Y. Sano, H. Hara, H. Mimura, K. Yamamura and K. Yamauchi:
Beveling of Silicon Carbide Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining,
Materials Science Forum, Vols 600-603, 843-846, 2009
53. Y. Sano, M. Watanabe, T. Kato, K. Yamamura, H. Mimura and K. Yamauchi:
Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon
and Silicon Carbide, Materials Science Forum, Vols. 600-603, 847-850, 2009
52. J. Murata, S. Sadakuni, K. Yagi, Y. Sano, T. Okamoto, K. Arima, A.
N. Hattori, H. Mimura, and K. Yamauchi: Planarization of GaN(0001) Surface
by Photo-Electrochemical Method with Solid Acidic or Basic Catalyst, Japanese
Journal of Applied Physics, 48, 121001-1-4, 2009
51. S. Matsuyama, M. Shimura, H. Mimura, M. Fujii, H. Yumoto, Y. Sano,
M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa and K. Yamauchi: Trace
element mapping of a single cell using a hard x-ray nanobeam focused by
a Kirkpatrick-Baez mirror system, X-ray Spectrometry, 38, 89-94, 2009
50. S. Handa, H. Mimura, H. Yumoto, T. Kimura, S. Matsuyama, Y. Sano, K.
Yamamura, K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa, and K. Yamauchi:
Novel Scheme of Figure-Error Correction for X-ray Nanofocusing Mirror,
Japanese Journal of Applied Physics, 48, 096507-1-4, 2009
49. T. Kimura, S. Handa, H. Mimura, H. Yumoto, D. Yamakawa, S. Matsuyama,
Y. Sano, ,K. Inagaki, K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa,
K. Yamauchi: Wavefront Control System for Phase Compensation in Hard X-ray
Optics, Japanese Journal of Applied Physics, 48, 072503-1-4, 2009
48. Y. Takahashi, Y. Nishino, R. Tsutsumi, H. Kubo, H. Furukawa, H. Mimura,
S. Matsuyama, N. Zettsu, E. Matsubara, T. Ishikawa, K. Yamauchi: High-Resolution
Diffraction Microscopy Using the Plane-Wave Field of a Nearly Diffraction-Limited
Focusing X ray, Physical Review B, 80, 054103-1-4, 2009
47. Y. Takahashi, Y. Nishino, H. Mimura, R. Tsutsumi, H. Kubo, T. Ishikawa,
K. Yamauchi: Feasibility study of high-resolution coherent diffraction
microscopy using synchrotron x rays focused by Kirkpatrick-Baez mirrors,
Journal of Applied Physics, 105, 083106-1-5, 2009
46. H. Mimura, S. Morita, T. Kimura, D. Yamakawa, W. LIN, Y. Uehara, S.
Matsuyama, H. Yumoto, H. Ohashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T.
Ishikawa, H. Ohmori, and K. Yamauchi: Focusing mirror for X-ray free-electron
lasers, Review of Scientific Instrument, 083104-1-4, 2008
45. S. Matsuyama, H. Mimura, K. Katagishi, H. Yumoto, S. Handa, M. Fujii,
Y. Sano, M. Shimura, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa:
Trace element mapping using a high-resolution scanning X-ray fluorescence
microscope equipped with a Kirkpatrick-Baez mirror system, Surface and
Interface Analysis, 40 (6-7), 1042-1045, 2008
44. H. Yumoto, H. Mimura, T. Kimura, S. Handa, S. Matsuyama, Y. Sano, K.
Yamauchi: Stitching interferometric metrology for steeply curved x-ray
mirrors, Surface and Interface Analysis, 40(6-7), 1023-1027, 2008
43. S. Handa, H. Mimura, H. Yumoto, T. Kimura, S. Matsuyama, Y. Sano, K.
Yamauchi: Highly accurate differential deposition for X-ray reflective
optics, Surface and Interface Analysis, 40(6-7), 1019-1022, 2008
42. H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, S. Handa, T. Kimura, Y. Sano, M.
Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi: Direct Determination
of the Wave Field of an X-ray Nanobeam, Physical Review A, 77, 015812-1-4,
2008
41. Y. Sano, T. Masuda, H. Mimura and K. Yamauchi: Ultraprecision finishing
technique by numerically controlled sacrificial oxidation, Journal of Crystal
Growth, 31, 02173-2177, 2008
40. J. Murata, A. Kubota, K. Yagi, Y. Sano, H. Hara, K. Arima, T. Okamoto,
H. Mimura, K. Yamauchi: Chemical planarization of GaN using hydroxyl radicals
generated on a catalyst plate in H2O2 solution, Journal of Crstal Growth,
310, 1637-1641, 2008
39. H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, Y. Sano, K. Yamamura, Y. Mori,
M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi: Efficient
focusing of hard x rays to 25 nm by a total reflection mirror, Applied
Physics Letters, 90, 051903-1-3, 2007
38. H. Hara, Y. Sano, H. Mimura, K. Arima, A. Kubota, K. Yagi, J. Murata
and K. Yamauchi: Damage-free Planarization of 4H-SiC (0001) by Catalyst-Referred
Etching, Materials Science Forum, 556-557, 749-751, 2007
37. K. Arima, H. Hara, J. Murata, T. Ishida, R. Okamoto, K. Yagi, Y. Sano,
H. Mimura and K. Yamauchi,: Atomic-scale flattening of SiC surfaces by
electroless chemical etching in HF solution with Pt catalyst, Applied Physics
Letters, 90, 202106 1-3, 2007
36. Y. Sano, K. Yamamura, H. Mimura, K. Yamauchi, and Y. Mori: Fabrication
of ultrathin and highly uniform silicon on insulator by numerically controlled
plasma chemical vaporization machining, Review of Scientific Instruments,
78(3), 086102-1-3, 2007
35. H. Hara, Y. Sano, K. Arima, K. Yagi, J. Murata, A. Kubota, H. Mimura,
K. Yamauchi: CAtalyst-Referred Etching of Silicon, Science and Technology
of Advanced Materials, 8, 162-165, 2007
34. M. Kanaoka, C, Liu, K. Nomura, M. Ando, H. Takino, Y. Fukuda, Y. Mori,
H. Mimura, K. Yamauchi: Figuring and smoothing capabilities of elastic
emission machining for low-thermal-expansion glass optics, Journal of Vacuum
Science and Technology. B 25(6), 2110-2113, 2007
33. J. Katoh, K. Arima, A. Kubota, H. Mimura, K. Inagaki, Y. Mori, K. Yamauchi,
and K. Endo: Atomic-Scale Evaluation of Si(111) Surfaces Finished by the
Planarization Process Utilizing SiO2 Particles Mixed with Water, Journal
of The Electrochemical Society, 153 (6), G560-G565, 2006
32. A. Kubota, H. Mimura, K. Inagaki, Y. Mori and K. Yamauchi: Effect of
Particle Morphology on Removal Rate and Surface Topography in Elastic Emission
Machining, Journal of Electrochemical Society, 153, G874-G878 , 2006.
31. K. Yamamura, Y. Sano, M. Shibahara, K. Yamauchi, H. Mimura, K. Endo
and Y. Mori: Ultraprecision Machining Utilizing Numerically Controlled
Scanning of Localized Atmospheric Pressure Plasma, Japanese Journal of
Applied Physics, 45, 8270-8276, 2006
30. H. Yumoto, H. Mimura, S. Matsuyama, S. Handa, Y. Sano, M. Yabashi,
Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, and K. Yamauchi: At-wavelength figure
metrology of hard x-ray focusing mirrors, Review of Scientific Instruments,
77(6), 063712-1-6, 2006
29. S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, Y. Sano, K. Yamamura, M. Yabashi,
Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi: Development of scanning
X-ray fluorescence microscope with spatial resolution of 30nm using K-B
mirrors optics, Review of Scientific Instruments, 77(10), 103102-1-5, 2006
28. S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano,
K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K.
Yamauchi: Development of mirror manipulator for hard X-ray nanofocusing
at sub-50 nm level, Review of Scientfic Instruments, 77(9), 093107-1-5,
2006
27. K. Arima, A. Kubota, H. Mimura, K. Inagaki, K. Endo, Y. Mori and K.
Yamauchi: Highly resolved scanning tunneling microscopy study of Si(001)
surfaces flattened in aqueous environment, Surface Science Letters, 600
(15), L185-L188, 2006
26. M. Yabashi, J. B. Hastings, M. S. Zolotorev, H. Mimura, H. Yumoto,
S. Matsuyama, K. Yamauchi, and T. Ishikawa: Single-Shot Spectrometry for
X-Ray Free-Electron Lasers, Physical Review Letter, 97, 084802 -1-4, 2006
25. K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Ueno, A.
Souvorov, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, Y. Mori: Wave-optical evaluation
of interference fringes and wavefront phase in hard X-ray beam totally
reflected by mirror optics, Applied Optics, 44, 6927-6932, 2005
24. S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo,
Y. Mori, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa and K. Yamauchi:
Diffraction-limited two-dimensional hard-X-rays focusing in 100nm level
using K-B mirror arrangement, Review of Scientific Instrument, 76(8), 083114-1-5,
2005
23. M. Shimura, A. Saito, S. Matsuyama, T. Sakuma, Y. Terui, K. Ueno, H.
Yumoto, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, M. Yabashi, K. Tamasaku,
K. Nishio, Y. Nishino, K. Endo, K. Hatake, Y. Mori, Y. Ishizaka and T.
Ishikawa: Element Array by Scanning X-ray Fluorescence Microscopy after
Cis-Diamminedichloro-Platinum(II) Treatment, Cancer Research, 65 (12),.
4998-5002, 2005
22. 久保田章亀, 三村秀和，佐野泰久，山村和也，山内和人，森 勇藏: EEM (Elastic
Emission Machining)による4H-SiC(0001)表面の平滑化, 精密工学会誌論文集,
71(4), 477-480, 2005
21. A. Kubota, H. Mimura, K. Inagaki, Y. Mori and K. Yamauchi: Preparation
of Ultrasmooth and defect-free 4H-SiC(0001) Surfaces by Elastic Emission
Machining, Journal of Electronic Material, 34(4), 439-443, 2005
20. 久保田章亀, 三村秀和, 湯本博勝，森 勇藏, 山内和人: EEM (Elastic Emission
Machining)プロセスにおける加工液がSi(001)表面のラフネスに及ぼす影響, 精密工学会誌論文集,71
(5), 628-632, 2005
19. 久保田章亀，三村秀和，稲垣耕司，森 勇藏，山内和人: EEM (Elastic Emission
Machining)プロセスにおける微粒子表面の形態が加工表面に及ぼす影響，精密工学会誌論文集,
71(6), 762-766, 2005
18. A. Kubota, H. Mimura, K. Inagaki, H. Yumoto, Y. Mori and K. Yamauchi:
Morphological Stability of Si (001) Surface in Mixture Fluid of Ultrapure
Water and Silica Powder Particles in Elastic Emission Machining, Japanese
Journal of Applied Physics, 44(8), 5893-5897, 2005
17. H. Yumoto, H. Mimura, S. Matsuyama, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano,
K. Ueno, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa
and K. Yamauchi: Fabrication of elliptically figured mirror for focusing
hard X-rays to size less than 50 nm, Review of Scientific Instruments,
76, 063708-1-5, 2005
16. H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano,
M. Shibahara, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T.
Ishikawa and K. Yamauchi: Hard X-ray Diffraction-Limited Nanofocusing with
Kirkpatrick-Baez Mirrors, Japanese Journal of Applied Physics Part 2, 44
(18), L539-L542, 2005
15. H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno,
K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa and
K. Yamauchi: Relative angle determinable stitching interferometry for hard
x-ray reflective optics, Review of Scientific Instruments, 76(4), 045102-1-6,
2005
14. 湯本博勝, 三村秀和, 松山智至, 山村和也, 佐野泰久, 上野一匡, 遠藤勝義,
森 勇藏, 西野吉則, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 山内和人: 硬X線ナノ集光用超高精度楕円ミラーの作製と1次元集光性能の評価,
精密工学会誌論文集, 71(9), 1137-1140, 2005
13 山内和人、三村秀和、久保田章亀、有馬健太、稲垣耕司、遠藤勝義、森勇藏:
EEM（Elastic Emission Machining)によるSi（001）表面の平坦化（第2報）-加工表面の原子像観察と構造評価ー,
精密工学会誌論文集, 70(4), 547-551, 2004
12. 森勇藏、山内和人、三村秀和、稲垣耕司、久保田章亀、遠藤勝義: EEM（Elastic
Emission Machining)によるSi（001）表面の平坦化（第１報）-超清浄EEM加工システムの開発ー,
精密工学会誌論文集,70(3), 391-396, 2004
11. H. Mimura, K. Yamauchi, K. Yamamura, A. Kubota, S. Matsuyama, Y. Sano,
K. Ueno, K. Endo, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa and
Y. Mori: Image quality improvement in hard X-ray projection microscope
using total reflection mirror optics, Journal of Synchrotron Radiation,
11, 343-346, 2004
10. K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Ueno K.
Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, and Y. Mori: Microstitching
interferometry for x-ray reflective optics, Review of Scientific Instruments,
74 (5), 2894-2898, 2003
9. K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K. Endo, A.
Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa and Y. Mori: Two-dimensional
Submicron Focusing of Hard X-rays by Two Elliptical Mirrors Fabricated
by Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining,
Japanese Journal of Applied Physics Part 1, 42 (11), 7129-7134, 2003
8. K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, A. Souvorov,
M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa and Y. Mori: Nearly diffraction-limited
line focusing of hard X-ray beam with elliptically figured mirror, Journal
of Synchrotron Radiation, 9, 313-316, 2002
7. K. Yamauchi, H. Mimura, K. Inagaki, Y. Mori: Figuring with sub- nanometer-level
accuracy by numerically controlled elastic emission machining, Review of
Scientific Instruments, 73 (11), 4028-4033, 2002
6. 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 久保田章亀, 関戸康裕, 上野一匡,
Alexei Souvorov, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 森 勇藏: 高精度X線ミラーのための干渉計を利用した形状計測システムの開発,
精密工学会誌, 69 (6), 856-860, 2003
5. 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 齋藤 彰, 久保田章亀, 金岡政彦,
Alexei Souvorov, 玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也, 森 勇藏: 硬X線用斜入射平面ミラーの形状誤差が反射X線強度・位相分布に及ぼす影響の波動光学的評価,
精密工学会誌,69 (7), 997-1001, 2003
4. 森 勇藏, 山内和人, 山村和也, 三村秀和, 佐野泰久, 齋藤 彰, Alexei Souvorov,
玉作賢治, 矢橋牧名, 石川哲也: プラズマCVMおよびEEMによるシンクロトロン放射X線用楕円ミラーの作製と集光特性の評価,
精密工学会誌，68(10), 1347-1350, 2002
3. 山内和人, 稲垣耕司, 三村秀和, 杉山和久, 広瀬喜久治, 森 勇藏: Elastic
Emission Machiningにおける表面原子除去過程の解析とその機構の電子論的な解釈,
精密工学会誌，68(3), 456-460, 2002
2. Kouji Inagaki, Kazuto Yamauchi, Hidekazu Mimura, Kazuhisa Sugiyama,
Kikuji Hirose, Yuzo Mori,: First-principles evaluations of machinability
dependency on powder material in elastic emission machining, Materials
Transactions, 42(11), 2290-2294, 2002
1 森勇蔵，山内和人，杉山和久，稲垣耕司，三村秀和，今井利幸：数値制御EEM(Elastic
Emission Machining)加工システムの開発―nmオーダでの加工精度の評価―，精密工学会誌, 67(4),
33-38, 2001
（２） 解説論文、総合報告
10. H. Mimura, Formation of sub-10nm hard X-ray beam, SPring-8 Research
Frontiers, p161-162, 2010.
9. 三村秀和, 放射光とナノ精度光学素子が拓く世界, 学術の動向, 15 (8), pp.8_42-8_46, 2010.
8. 三村秀和, 松山智至, ミラー光学素子の開発およびその応用の現状と将来展望,
放射光, 23(3), 173-179, 2010.
7. 三村秀和, 放射光用高精度X線ミラーの製作とナノビーム応用, 放射光, 22(2)
, 113-116, 2009.
6. 三村秀和, 山内和人, 大森整: X線自由電子レーザ用大型集光ミラーの開発,
精密工学会誌, 75 (12), 1384-1387, 2009.
5. 三村秀和、山内和人、大森整: X線自由電子レーザ集光ミラーの開発, 光アライアンス,
20 29-32, 2009
4. 三村秀和、湯本博勝、松山智至、山内和人: 位相回復波面計測法に基づくＸ線ナノ集光ミラーの開発,
光アライアンス, 6, 42-46, 2007.
3. 佐野泰久, 三村秀和, 山村和也, 山内和人, 森勇藏: 高精度非球面ミラーの加工技術,
レーザー研究, 35, 162-167, 2007
2 三村秀和, 山内和人: X線ナノ集光ミラーの形状計測, 光アライアンス,8, 45-49,
2006
1. 三村秀和, 久保田章亀, 山内和人, 森 勇藏: EEM(Elastic Emission Machining)によるナノ精度加工,
混相流20(2), 110-116, 2006
（３） 著書、編著
1. Y. Sano, K. Yamamura, H. Mimura, K. Yamauchi, and Y. Mori, Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining (Chapter 19), Crystal Growth Technology, Edited by H. J. Scheel and P. Capper, Wiley-VCH, 2008.
2. 三村秀和, 山内和人, 森勇藏: Elastic Emission Machining, 工業調査会「図解
砥粒加工技術のすべて」(砥粒加工学会編), 114-115(分担執筆) , 2006.
（４） 査読つき国際会議 論文
27. H. Mimura, T. Kimura, H. Yokoyama, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Tamasaku,
Y. Koumura, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi, H., An adaptive optical
system for sub-10nm hard x-ray focusing," Proc SPIE, 7803, 780304.
26. L. Samoylova, H. Sinn, F. Siewert, H. Mimura, K. Yamauchi, T. Tschentscher
: Requirements on hard x-ray grazing incidence optics for European XFEL:
analysis and simulation of wavefront transformations, Proceeding of SPIE,7360,
73600E, SPIE Optics and Photonics Annual conference, SanDiego, CA, USA,
11 August, 2009
25 T. Kimura, S. Handa, H. Mimura, H. Yumoto, D. Yamakawa, S. Matsuyama,
Y. Sano, K. Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi
: Development of adaptive mirror for wavefront correction of hard x-ray
nanobeam, Proceeding of SPIE,7077, 707709, SPIE Optics and Photonics Annual
conference, SanDiego, CA, USA, 11 August, 2008
24 H. Mimura, S. Morita, T. Kimura, D. Yamakawa, W. Lin, Y. Uehara, H.
Yumoto, S. Matsuyama, Y. Nishino, K. Tamasaku, H. Ohashi, M. Yabashi, T.
Ishikawa, H. Ohmori, K. Yamauchi : Fabrication of a 400-mm-long mirror
for focusing x-ray free-electron lasers to sub-100 nm, Proceeding of SPIE,7077,
70770R, SPIE Optics and Photonics Annual conference, SanDiego, CA, USA,
11 August, 2008
23 C. Morawe, J. Guigay, V. Mocella, C. Ferrero, H. Mimura, S. Handa,
K. Yamauchi : Aberrations in curved x-ray multilayers, Proceeding of SPIE,70770,
70770T, SPIE Optics and Photonics Annual conference, SanDiego, CA, USA,
11 August, 2008
22 H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, S. Handa, T. Kimura, Y. Sano, K.
Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi,, T. Ishikawa, K. Yamauchi : Reflective
optics for sub-10nm hard x-ray focusing, Proceeding of SPIE,6704, 67050L,
SPIE Optics and Photonics Annual conference, SanDiego, CA, USA, 30 August,
2007
21 S. Handa, H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, T. Kimura, Y. Sano, K.
Tamasaku, Y. Nishino, M. Yabashi, T. Ishikawa, K. Yamauchi : Hard x-ray
wavefront measurement and control for hard x-ray nanofocusing, Proceeding
of SPIE,6704, 670404, SPIE Optics and Photonics Annual conference, SanDiego,
CA, USA, 30 August, 2007
20 H. Ohashi, T. Tsumura, H. Okada, H. Mimura, T. Masunaga, Y. Senba,
S. Goto, K. Yamauchi, T. Ishikawa : Microstitching interferometer and relative
angle determinable stitching interferometer for half-meter-long x-ray mirror,
Proceeding of SPIE,6704, 670405, SPIE Optics and Photonics Annual conference,
SanDiego, CA, USA, 30 August, 2007
19 A. Rommeveaux, L. Assoufid, H. Ohashi, H. Mimura, K. Yamauchi, J. Qian,
T. Ishikawa, C. Morawe, A. T. Macrander, A. Khounsary, S. Goto : Second
metrology round-robin of APS, ESRF and SPring-8 laboratories of elliptical
and spherical hard-x-ray mirrors, Proceeding of SPIE,6704, 67040B, SPIE
Optics and Photonics Annual conference, SanDiego, CA, USA,
30 August, 2007
18 K. Yamauchi, H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, S. Handa, K. Yamamura,
Y. Sano, K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, and T.
Ishikawa, Hard X-ray Focusing less than 50nm for Nanoscopy/spectroscopy,
AIP Conference Proceedings, 879, 1, pp786-791, The Ninth International
Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation, May 28-June 2, Daegu,
Korea, 2006
17 H. Yumoto, H. Mimura, S. Matsuyama, S. Handa, A. Shibatani, K. Katagishi,
Y. Sano, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi
: At-wavelength figure metrology of total reflection mirrors in hard x-ray
region, Proceeding of SPIE,6317, 631709, SPIE Optics and Photonics Annual
conference, SanDiego, CA, USA, 14 August, 2006
16 H. Mimura, S. Matsuyama, H. umoto, S. Handa, A. Shibatani, K. Katagishi,
Y. Sano, Y. Nishino, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi
: Wave-optical simulations for designing and evaluating hard x-ray reflective
optics, Proceeding of SPIE,6317, 631718, SPIE Optics and Photonics Annual
conference, SanDiego, CA, USA, 14 August, 2006
15 S. Matsuyama, H. Mimura, M. Shimura, H. Yumoto, K. Katagishi, S. Handa,
A. Shibatani, Y. Sano, K. Yamamura, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi,
T. Ishikawa, K. Yamauchi : High-spatial-resolution scanning x-ray fluorescence
microscope with Kirkpatrick-Baez mirrors, Proceeding of SPIE,6317, 631719,
SPIE Optics and Photonics Annual conference, SanDiego, CA, USA, 14 August,
2006
14 H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano,
K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, Y. Nishino, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K.
Yamauchi, Hard X-ray diffraction-limited nanofocusing with unprecedentedly
accurate mirrors, Proc. 8th Int. Conf. X-ray Microscopy, IPAP Conf. Series
7 pp.100-102,8th International Conference on X-ray Microscopy, 26-30 July,
Himeji, Japan, 2005
13 K. Yamauchi, H. Mimura, K. Endo, Y. Mori, Elastic Emission Machining
(EEM), Book of Lecture Note, Third International Workshop on Crystal Growth
Technology-3, 317-326, Beatenberg, Switzerland, September 10-18, 2005
12 L. Assoufid, A. Rommeveaux, H. Ohashi, K. Yamauchi, H. Mimura, J.
Qian, O. Hignette, T. Ishikawa, C. Morawe, A. Macrander, A. Khounsary,
S. Goto : Results of x-ray mirror round-robin metrology measurements at
the APS, ESRF, and SPring-8 optical metrology laboratories, Proceeding
of SPIE,5921, 59210J, SPIE Optics and Photonics Annual conference, SanDiego,
CA, USA, 2 August, 2005
11. H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Endo,
Y. Mori, Y. Nishino, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, K. Yamauchi
: Surface figuring and measurement methods with spatial resolution close
to 0.1 mm for x-ray mirror fabrication, Proceeding of SPIE,5921, 59210M,
SPIE Optics and Photonics Annual conference, SanDiego, CA, USA, 2 August,
2005
10. S. Matsuyama, H. Mimura, H. Yumoto, H. Hara, K. Yamamura, Y. Sano,
K. Endo, Y. Mori, Y. Nishino, K. Tamasaku, M. Yabashi, T. Ishikawa, K.
Yamauchi: Hard x-ray nano-focusing at 40nm level using K-B mirror optics
for nanoscopy/spectroscopy, Proceeding of SPIE,5918, 591804, SPIE Optics
and Photonics Annual conference, SanDiego, CA, USA, 2 August, 2005
9. . K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, S. Matsuyama, H. Yumoto,
K. Ueno, M. Shibahara, K. Endo, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T.
Ishikawa, Y. Mori: Fabrication technology of ultraprecise mirror optics
to realize hard x-ray nanobeam, Proceeding of SPIE,5533, 591804, SPIE Optics
and Photonics Annual conference, Denver, CO, USA, 7 August, 2004
8. H. Mimura, H. Yumoto, S. Matsuyama, K. Yamamura, Y. Sano, K. Ueno,
K. Endo, Y. Mori, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, K.
Yamauchi: Microstitching interferometry for nanofocusing mirror optics,
Proceeding of SPIE,5533, pp.171-180, SPIE Optics and Photonics Annual conference,
Denver, CO, USA, 7 August, 2004
7. S. Matsuyama, H. Mimura, K. Yamamura, H. Yumoto, Y. Sano, K. Endo,
Y. Mori, M. Yabashi, K. Tamasaku, Y. Nishino, T. Ishikawa, K. Yamauchi:
Wave-optical and ray-tracing analysis to establish a compact two-dimensional
focusing unit using K-B mirror arrangement, Proceeding of SPIE,5533, pp.181-191,
SPIE Optics and Photonics Annual conference, Denver, CO, USA, 7 August,
2004
6. Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K.
Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, M. Shimura, Y.
Ishizaka: Fabrication technology of hard x-ray aspherical mirror optics
and application to nanospectroscopy, Proceeding of SPIE,5193, pp.11-17,
SPIE Optics and Photonics Annual conference, SanDiego, CA, USA, 7 August,
2003
5. Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K.
Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa: Development of
a figure correction method having spatial resolution close to 0.1 mm, Proceeding
of SPIE,5193, pp.105-111, SPIE Optics and Photonics Annual conference,
San Diego, CA, USA, 7 August, 2003
4. Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, K.
Ueno, K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa: Submicron
focusing of hard x-ray beam by elliptically figured mirrors for scanning
x-ray microscopy, Proceeding of SPIE,4782, pp.58-64, SPIE Optics and Photonics
Annual conference, Seattle, WA, USA, 10 July, 2002
3. K. Yamamura, H. Mimura, K. Yamauchi, Y. Sano, A. Saito, T. Kinoshita,
K. Endo, Y. Mori, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa: Aspheric
surface fabrication in nanometer-level accuracy by numerically controlled
plasma chemical vaporization machining (CVM) and elastic emission machining
(EEM), Proceeding of SPIE,4782, pp.265-270, SPIE Optics and Photonics Annual
conference, Seattle, WA, USA, 10 July, 2002
2. K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, Y. Sano, A. Saito, M. Kanaoka,
K. Endo, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa, Y. Mori: Wave-optical
analysis of submicron focusing of hard x-ray beams by reflective optics,
Proceeding of SPIE,4782, pp.271-276, SPIE Optics and Photonics Annual conference,
Seattle, WA, USA, 10 July, 2002
1. Y. Mori, K. Yamauchi, K. Yamamura, H. Mimura, A. Saito, H. Kishimoto,
Y. Sekito, M. Kanaoka, A. Souvorov, M. Yabashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa:
Development of plasma chemical vaporization machining and elastic emission
machining systems for coherent x-ray optics, Proceeding of SPIE, pp.30-42.,
SPIE Optics and Photonics Annual conference, San Diego, CA, USA, 31 July,
2001
?
Ⅱ 招待講演、依頼講演
13. H. Mimura et al , Development of Micro- and Nano- Focusing system
for X-ray Free Electron Lasers, SPIE Optics and Photonics Annual Conferece,
SanDiego, USA, 2011年8月11日
12. 三村秀和， 高精度ミラーによるナノサイズＸ線集光とＸＦＥＬでの利用, 第31回レーザー学会 年次大会，電気通信大学，2011年1月9日
11. H. Mimura, Focusing mirror for X-ray free electron lasers, EuroXFEL
workshop, Hamburg, Germany, 2010年6月
10. H. Mimura, Hard X-ray sub-10nm focusing by adaptive optical system,
International workshop on Phase retrieval and Coherent Scattering (Coherence
2010), Rostock-Warnem?nde, Germany, 2010年6月
9. 三村秀和, 硬Ｘ線ナノ集光のための波面補正光学系の開発, 東京大学物性研究所短期研究会,
東京大学, 2009年7月
8. 三村秀和, 高精度Ｘ線ミラーの開発とナノビーム形成, 2009年日本放射光学会
奨励賞受賞講演, 東京大学, 2009年1月
7. H. Mimura, Fabrication of 400mm long X-ray mirror by Electrolytic In-process
Dressing Grinding and Elastic Emission Machining, The 6th CHINA-JAPAN,
International Conference on Ultraprecision Machining, Nov. 24-25, 2008,
Hunan Univ. ,Changsha, China, 2008年11月
6. 三村秀和, 放射光およびX線自由電子レーザー施設における集光光学系の開発，理研シンポジウム：第壱回「先進ものづくり技術によるアナライザーキーコンポーネント開発基盤の構築状況,
理化学研究所和光研究所, 2008年8月
5. 三村秀和, ラージスケールナノ精度形状転写法の開発, 独立行政法人中小企業基盤整備機構：第10回産学技術交流マッチング定例会,
2007年2月
4. 三村秀和, 超高精度Ｘ線ミラーの作製とその応用，第62回 物理学会秋季大会 シンポジウム,
2006年9月.
3. 三村秀和, 反射型光学素子による硬X線のナノ集光, 軟X線光学素子の生成と評価の現状と将来展望（Ⅳ）,
2006年3月
2. 三村秀和, KBミラー光学系による硬Ｘ線の回折限界ナノ集光, 2006年秋季 第67回応用物理学会学術講演会
2006年応用物理学会論文賞（奨励賞）受賞講演, 2006年9月
1. H. Mimura, Development of hard X-ray nanofocusing system using ultraprecisely
figured mirrors at SPring-8, The 9th SPring-8, ESRF, APS Workshop, SPring-8, 2004年11月
Ⅲ 特許出願
7. 三村秀和，電鋳法における形状転写導電層の形成方法、特願2007-260639
6. 三村秀和，山内和人, 岡田浩巳、電鋳法による超精密部品の製造方法及び超精密光学部品、特願2007-237233
5. 山内和人，三村秀和, 超精密形状測定法、PCT/JP2007/052729（アメリカ）.
4. 山内和人, 三村秀和, 岡田浩巳、X線ミラーの高精度姿勢制御法、特願2006-221714
3. 三村秀和, 山内和人, 岡田浩巳、電鋳法による超精密部品の製造方法及び超精密光学部品、特願2006-279269
2. 山内和人, 三村秀和, 岡田浩巳、X線波面計測法と形状可変ミラーによるX線集光法、特願2006-357566
1. 山内和人, 三村秀和, 超精密形状測定法、特願2006-042547
Ⅴ 学会活動
所属学会：精密工学会、日本放射光学会、応用物理学会、日本光学会、電気加工学会
学会活動
9. International Journal of Electrical Machining (IJEM) Secretary Editor,
2011年
8. 電気加工学会 平成23年度全国大会実行委員, 2011年11月
7. 電気加工学会 電解加工研究会 幹事,2011年
6. 精密工学会 平成22年度 アフェリエイト認定, 2010年3月.
5. 精密工学会 超精密加工専門委員会 第52回研究会「光を用いたマイクロナノ加工の最前線」を企画、司会担当 大阪コロナホテル（新大阪）,
2010年2月26日
4. SPIE Optics and Photonics （米国:光工学会主催年次会議）：Advances in
Metrology for X-Ray and EUV Optics, のSession program committee memberに選ばれる, 2010年より.
3. 精密工学会学術講演会 オーガナイズセッション「ナノ表面創成工学とその応用」を平成21年秋季大会にあわせて企画、以降主オーガナイザーを担当. 2009年9月 精密工学会秋季大会
2. 精密工学会 超精密加工専門委員会共催International workshop on X-ray
mirror design, fabrication and metrology, Local Steering Committee Chairを担当, 大阪大学にて開催,
参加者数101名（外国人51名）, 2009年9月22日～23日
1. 日本放射光学会若手研究会「X線ナノ集光技術研究会」を企画、開催, 参加者数80名（放射光分野の若手研究を対象）,
大阪大学, 2009年8月6日
Ⅵ 受賞
4. ASPEN2011 (4th International Conference of Asian Society for Precision
Engneering and Nanotechnology) Best Paper Award, 2011年11月
3． 精密工学会 平成21年度アフェリエイト認定 2010年3月
2． 第13回放射光学会奨励賞受賞 「高精度Ｘ線ミラーの作製とナノビーム形成」2009年1月
1． 平成18年度応用物理学会論文奨励賞受賞（H.Mimura et al, Jpn. J. Appl.
Phys. 44 (2005) pp. L539-L542）2006年9月